改良西門子法是一種化學方法，主要由三氯氫硅與氫氣在1050℃～1150℃，一定壓力下進行還原氣象沉積反應生產高純多晶硅，該工藝一直是半導體行業電子級多晶硅生產最主要的工藝方法。其中，還原爐和氫化爐是改良西門子法生產多晶硅的核心設備，其運行好壞直接影響多晶硅質量及生產成本。還原爐和氫化爐為電耗較高的設備，一般企業為降低電耗及成本，大都釆取調整工藝參數、提供進料溫度、提高冷卻水溫、清洗鐘罩等方法，其中鐘罩清洗對多晶硅生產非常重要，如果鐘罩清洗不干凈、光潔度不夠，常常會導致硅芯擊不穿或對產品質量污染，因此擁有一套完善的多晶硅還原爐清洗系統對多晶硅生產廠家顯得尤為重要。
 
國內多晶硅鐘罩清洗方式多種多樣，有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等，但大多釆用堿液中壓清洗。我們在使用過程中發現這些清洗方式不能將鐘罩清洗干凈，不能滿足生產需求。為此，北京德高潔清潔設備有限公司經過研發設計并制造出了多晶硅自動化還原爐鐘罩清洗系統。
 
多晶硅自動化還原爐鐘罩清洗系統是以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內部表面的水力掃射，并采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，之后再采用高純水沖洗，最終完成清洗過程。具體特點如下：
 
1、核心部件高壓泵采用進口耐酸堿、耐高溫、全不銹鋼的加壓泵，清洗作業時三維旋轉噴頭可實現自驅動旋轉、自動升降、全方位自動清洗，并可保證多晶硅的純度；

2、利用多晶硅生產廠家的蒸汽余熱將清洗介質加熱，從而改變原電加熱工藝；

3、利用多晶硅生產廠家的廠家蒸汽余熱，設置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝；

4、北京德高潔清潔設備有限公司自行研發設計的自驅動旋轉升降噴射機構可適應各規格的還原爐體；

5、由于清洗過程中會有氫氣和酸性物質產生，所以必須解決二次污染問題。我公司自行設計的全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染；

6、設計出高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置，并進行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序，充分利用了廢水資源。

實際使用證明，北京德高潔清潔設備有限公司研發生產的多晶硅自動化還原爐鐘罩清洗系統有效解決了生產中的實際問題，為公司節能降耗提供了有利條件，適用于在全國范圍推廣應用。