多晶硅分太陽能級和電子級兩大類，電子級多晶硅是目前最高純度等級的多晶硅產品，主要作為硅片及芯片等生產的原材料，是集成電路產業的核心關鍵基礎原料。電子級多晶硅的純度要求則為99.9999999%~99.999999999%，即（9N到11N），電子級多晶硅的高純度要求相當苛刻，如5000噸的電子級多晶硅中總的雜質含量僅相當于一枚1元硬幣的重量。
 
由于多晶硅純度會嚴重影響到單晶硅拉制環節，所以電子級多晶硅雜質含量要求更為苛刻，電子級多晶硅生產廠家在工藝流程、設備維護、產品運輸等多方面進行提升，以提高企業的競爭力度。而在電子級多晶硅改良西門子法生產工藝中，還原爐是整個多晶硅生產系統的“心臟”部件，也是影響實際產量最核心的工藝環節，生產出來的多晶硅質量的優劣取決于它，因此還原爐鐘罩內壁的清潔度直接影響最終產品的質量，同時，作為多晶硅的生產電耗比重首位的熱沉積反應器，其內壁的光潔可以有效降低還原電耗，所以在電子級多晶硅生產過程中，多晶硅還原爐鐘罩內部清潔至關重要。

一、電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗要求

1、潔凈度要求

清洗過程中要確保潔凈度達到電子級別的標準，這通常意味著要徹底去除鐘罩表面的所有塵埃、污垢和任何可能對硅片產生負面影響的雜質。

2、避免化學污染

清洗過程中使用的化學品必須是高純度的，并且不得留下任何殘留物。使用去離子水（DI水）等高純度水源是必要的，以避免引入任何額外的離子或雜質。

3、溫度控制

清洗過程中的溫度應該在適當的范圍內，以確保清洗劑的有效性，并防止對設備產生不良影響。同時，溫度控制也有助于防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。

4、機械清洗

對鐘罩表面的機械清洗應該是適用而徹底的，以在不傷害其內部表面結構的情況下，去除附著在表面的任何顆�；螂s質。

5、避免靜電

電子級多晶硅生產對靜電敏感，在清洗過程中要注意避免靜電的產生。

6、實時監測和控制

清洗過程中要實時監測清洗效果，確保達到規定的潔凈度標準。

7、設備保養

清洗設備本身也需要定期保養，以確保其正常運行且不會引入額外的污染。

8、符合行業標準

清洗過程應符合相關的行業標準和規范，以確保清洗的效果和可重復性。

在進行電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗時，以上要求都是為了確保最終生產的硅片符合高純度和高質量的要求。這些要求有助于避免因為鐘罩表面殘留的污染物而引入缺陷，從而影響電子級多晶硅硅片的生產質量，應對于以上的清洗要求，普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質量不均勻，且整體自動化程度低；因此需要一種高效、快速、自動化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內壁清洗方式。

二、電子級多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式

德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統，由高壓熱水清洗系統、熱風凈化烘干系統、控制系統等組成，系統操作簡單，自動化程度高，整個清洗工藝包含：還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，全程僅需人工輔助作業，解決傳統人工清洗不安全、不環保、清洗效果差、自動化程度低、效率不高的缺陷。
 
采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統，能實現對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干，清洗烘干時間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數可以根據需要自行調整設定，同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程，可實現遠程對樓下設備的控制和主要參數監控。

全密閉式清洗烘干系統，清洗時采用高壓水三維立體清洗技術，以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射，實現內部無死角清洗，以水為清洗介質可有效避免靜電的產生，清洗后旋轉和升降清洗吹干執行機構，根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位，可自動切換不同清洗液及吹干，通過控制系統可對清洗、吹干時間等進行調整，清洗時只需一鍵操作即可，操作簡單方便。

在整個還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態，防止清洗外溢，清洗后的廢水廢氣處理系統可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設計出口排放，基本消除了對現場及操作人員的污染。
 
德高潔高壓水電子級多晶硅還原爐鐘罩清洗系統，其核心部件、元件和附件原裝進口保證了電子級多晶硅鐘罩清洗系統性能的可靠，可以在一套系統實現多種型號鐘罩的清洗烘干。除此之外，根據還原爐底部法蘭的結構特殊設計升級后的清洗工作臺，不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗�？蓪崿F對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。

目前，德高潔在多晶硅還原爐清洗行業已擁有國內90%的用戶，為多晶硅行業提供了幾十套還原爐清洗系統，如您有需求歡迎電話咨詢，德高潔將竭誠為您服務。